该厂为89英寸晶圆出产线智能化的超纯净水系统性，天天呈现含硅生活污水150吨。生活污水面虽无血本属，但硅含水量高易积垢，且内阻率需提高18MΩ·cm才行工业生产废水处里。以往处里施工工艺不可充分考虑新实行的《光电子工业生产水废弃物物排放口口标准单位》（GB39731-2020）特备排放口口允许值。 废气组分结构特征 基本污染破坏物 ：固体硅（200-300mg/L）、颗粒状硅（粒度分布0.1-1μm） 特色需要 ：TOC<10μg/L，硼含量<5μg/L 水的质量优点 ：低导电率（<50μS/cm）但硅单质体型很复杂 治理的工艺方法 技术创新所采用"梯级膜剥离 +电去铁离子"组合构成工艺技术： 微滤预外理 ：1μm瓷砖膜阻拦大颗粒状硅，通量持续80LMH 阳离子置换环氧树脂 ：D201大孔硅胶粘合剂选购性气体吸附硅酸大分子 两级RO平台 ：第一个段回收分类处理率60%，第二名段分为高脱硼膜器件 EDI电去阴阳离子 ：电压溶解度2A/m²，长期清理残留正离子 紫外线消菌 ：254nm红外光谱线的用药量40mJ/cm² 技能工作亮点 设计规划专用型阻硅剂（有机酸胺类符合物），延长膜造成的污染期限3倍 EDI模组研发流道设计构思，硅避开率改善至99.8% 在线播放硅解析仪（精确测量面积0.1-500μg/L）调整脱贫攻坚调整 作业初步成效 经其次方检验： 总硅从280mg/L低于0.05mg/L 硼分量从8μg/L低于0.3μg/L 控制系统回收公司率从原40%优化至68% 膜调整周期公式不断增加至5年，年启用成本费减小35%